SF6 ali žveplov heksafluorid je plin, ki se običajno uporablja pri suhem jedkanju, ki se uporablja predvsem za jedkanje silicija v procesu proizvodnje polprevodnikov. Plin SF6 ima oktaedrsko strukturo, sestavljeno iz osrednjega atoma žvepla, obdanega s šestimi atomi fluora. Njegove nepolarne lastnosti omogočajo izolacijski plin v visokonapetostni električni opremi. Fizikalne lastnosti SF6 vključujejo brezbarvno, brez vonja, ne-vnetljive, nestrupene, izolacijske, težje kot zrak, hladilno sposobnost, visoko dielektrično moč, toplotno stabilnost in slabo topnost v vodi, vendar topno v nepolarnih organskih topilih.
Kar zadeva kemijske lastnosti, SF6 skoraj ne reagira z drugimi snovmi pri sobni temperaturi, vendar se razgradi pod močno ultravijolično svetlobo.
SF6 na splošno proizvaja industrija, njegova vsebina v naravi pa je zelo majhna. Reakcijska enačba za proizvodnjo SF6 je:
2 CoF₃ + SF₄ + [Br₂] → SF₆ + 2 CoF₂ + [Br₂]
Ko se SF₄, cof₃ in BR₂ mešajo skupaj in segrejejo na 100 stopinj, se med njimi pojavi reakcija. V tej reakciji del SF₄ in COF₃ reagira, da nastane sf₆ in cof₂. Brom v reakciji se ne porabi, ampak deluje le kot katalizator.
Je SF6 nevaren?
Čeprav je SF6 v svojem čistem stanju netoksičen, bo iz zraka izpodrinil kisik, koncentracija volumna, večja od 19% v zraku, pa bo povzročila zadušitev. Zato je zelo pomembno pravočasno zaznati puščanje SF6 in v postopku izdelave polprevodnikov sprejeti ustrezne preventivne ukrepe.
Uporaba SF6 v industriji polprevodnikov
SF6 se pogosto uporablja pri proizvodnji polprevodnikov. V procesu silicijevega jedkanja se SF6 uporablja kot glavni plin jedkanja in deluje skupaj z ustvarjenimi hlapnimi plini SF4 in C4F8 za doseganje globokega silicijevega jedkanja. Poleg tega se SF6 pogosto uporablja za suho jedkanje kovin MO in W, pri čemer reagira s temi kovinami, da ustvari hlapne heksafluoride MOF₆ in WF₆. Čeprav SF6 ni najprimernejši plin za jedkanje aluminija, ga lahko uporabimo kot pomožni plin za izboljšanje hitrosti jedkanja aluminija, če ga pomešamo s plini, kot je CL₂.
Silikonsko jedkanje
V koraku jedkanja silicija je jedkan le silicij na dnu, kjer je bil odstranjen pasivacijski film. Vstavljen je plin SF6, SF6 pa se v plazmi loči, da ustvari različne produkte razgradnje, vključno z zelo aktivnimi atomi fluora (F).
SF6-->SF4+F2-->SF2+2F2-->F+...
Ustvarjeni atomi fluora reagirajo s površino silicija, da ustvarijo silicijev tetrafluorid (SIF4), hlapno spojino, ki se zlahka izpusti iz komore.
Si+4F-->SiF4
Jedkanje spodnje pasivne plasti
Na tej stopnji se na bočni steni in na dnu oblikuje pasivacijski sloj. Vendar pa želimo le obdržati plast pasivacije na bočni steni, da zaščitimo bočno steno pred jedkanjem, vendar moramo odstraniti pasivacijsko plast na dnu, da se vrtimo navzdol. Zato bo v tem času uveden plin SF6 za napad na pasivacijsko plast na dnu. Ko pasivacijski sloj na dnu izgine, SF6 še naprej jemlje silicij in cikel se ponavlja, kot nenehna zanka.
Tovarna žveplovega heksafluorida Sf6 na enem mestu na Kitajskem
Pošljite nam svoje povpraševanje o plinu žveplov heksafluorid SF6!
Zagotovili bomo visokokakovosten plin SF6 in storitve za izpolnitev vaših nabavnih potreb.
Pošljite povpraševanje zdaj
